真空镀膜设备的加热方式主要包括以下几种：

       1、电阻式加热：

       利用发热体通电后产生焦耳热来获得高温，熔融膜材料使其蒸发。这种加热方式结构简单，成本较低。

       具体形式有丝状电阻源、舟状电阻源、坩埚加热器等。电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

       但其缺点是不适用于难熔金属和耐受高温的介质材料。

       2、电子束加热：

       通过电场加速电子，使其获得动能打到膜材上，使膜材料加热气化。

       这种加热方式比电阻式加热热效率越高，可以直接加热到材料表面，提高膜的纯度。

       具体形式还有磁偏转式电子束加热、空心热阴极等离子电子束加热等。

       电子束加热适用于蒸发温度较高的材料，例如不低于2000℃。

       3、感应式加热：

       将装有膜材料的坩埚放在螺旋线圈的中间（不接触），再在线圈中通高频电流，膜材料在高频电磁感应下产生涡流出现升温，直至蒸发。

       这种加热蒸发方式的特点是对膜材料的纯度要求相对较低，蒸发源温度稳定，蒸发速率大。

       除了上述常见的加热方式外，真空镀膜设备还可能有其他的加热方法，例如：

       电弧加热：被蒸发材料作阴极，耐受高温的钼杆作阳极，在高真空下通电时，在两电极间产生弧光放电，使阴极材料蒸发。

       激光加热：用激光束作为热源，使被蒸发材料汽化。但由于大功率激光器的造价很高，目前主要在少数研究性实验室中使用。

       在选择加热方式时，需要根据具体的镀膜材料、工艺要求、设备成本等因素进行综合考虑。同时，为了确保镀膜的质量和效率，还需要注意真空镀膜设备的操作和维护，确保加热系统的稳定性和牢靠性。
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