磁控溅射镀膜设备-江苏唯力特真空设备有限公司

真空镀膜设备

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产品概述
磁控溅射是在阴极靶表面上方形成一个正交电磁场，当溅射产生的二次电子在阴极为降区内加破加速为高能电子后，并不直接飞向阴极而是在正交电磁场作用下作来回振荡运动，在运动中高能电子不断的与气体分子发生碰撞，并向后者转移能量，使之电离而本身变为低能电子，消除了高能电子对基体的轰击。

技术参数

设备型号	VLT-1000	VLT-1200	VLT-1300
镀膜室尺寸	Φ1000×1250	Φ1200×1250	Φ1300×1500
极限真空度	10^-4Pa	10^-4Pa	10^-4Pa
抽气时间	空载常温抽至5×10-3Pa＜10min
膜厚仪	配置振测厚仪
蒸发源	电阻蒸发
学生靶	一对（中频）
圆柱靶	一支
高压轰击	3000V 600MA	3000V 600MA	3000V 300MA
工件偏压	1000V 20A 500 40A	1000V 20A 500 40A	1000V 30A 500 60A
工件旋转方式	单/6/8转公自转行星式齿轮结构
配置机组	K-600、ZJP300	K-600、ZJP300	K-800、ZJ600
配置机组	2X-70	2X-70	2X-70
充气系统	气体质量流量控制仪
烘烤温度	350℃
控制系统配置	自控控制PLC及触摸屏

说明：带*配置由用户退配，并可由用户订选造其他规格

设备原理图示

磁控溅射镀膜原理图

在适当的真空环境下充入一定量的气体（如氩气）加上60千瓦的直流电源时会产生几百伏的高电压产生电弧，在电弧环境下离子和电子并同靶材冲突产生镀膜效果。

设备特性
生产同期：生产同期短—60sec/1同期（干燥无大量放气产品条件）
镀膜材料：适用各种金属镀膜（铝、镍、铜、铬……等金属材料）
镀膜方式：金属溅射镀膜和保护镀膜连续完成（镀膜后不需要其他防气化处理）
镀膜品质：亮度高，附着力强，光洁度好的产品注塑后可以直接镀膜不需要底涂
镀膜速度：两个60KW大功率磁控溅射电极，瞬间快速大范围镀膜
除湿能力：真空室内装有零下140度以下的低温冷冻系统，充分吸收湿气提高真空到达速度
运营费用：溅射电极是自行开发产品，大大提高了靶材的使用效率
不良品率：省去通常的加工工序（底涂和铝膜保护漆喷涂）减少不良品
占地面积：在固定位置进行上料和下料只要很小的操作空间
操作方法：人机界面可以直观的进行设置和监控，设有管理密码无关人员无法更改
售后服务：设有售后服务中心和配件仓库，可以快速处理使用中的问题

极间靶磁控阴极
配套了优化的极间靶磁控阴极。对于普通的反射性镀膜应用而言，该设备将配套工作清洁用的中频工位、等离子增强化学气相沉积底层保护镀膜、高速率溅射蒸发镀膜、等离子增强化学气相沉积表层保护镀膜等相应的膜层工艺室。

全自动工艺控制和整合
设备的硬件和软件设计可以与客户生产线的传送带进行有机的结合。传送带负责将工件架传送到设备上料工位，从而将工件传送到设备的镀膜工位，在工件进入下料工位时，传送带接收工件架并将工件传送到下个生产岗位，设备通过与传送带的精确的配合，帮助客户进一步提高生产效率，降低生产成本和提高产能。

满足客户的高生产要求
包括人机对话界面在内的控制系统可以提供故障诊断、报警功能和数据日志管理。设备各个组件如阴极、驱动装置和阀门等的安装位置充分的考虑到了维护、维修的工作需要。机型的设计、选材和制造充分的反应了唯力特真空设备准则。