多弧离子镀膜机是近年新开发的真空离子镀膜技术，利用真空状态下弧光放电原理的离子镀膜技术，是先发展起来的真空镀膜方式，具有沉积速率高快，结合牢固，设备运行稳定等优点，我公司在传统多弧的基础上，封靶结构、磁铁、冷却等进行了严格的改进和设计，提高了离化率，细化颗粒，膜层和基材结合牢固，膜层更加致密，硬度耐磨性提高，适用于镀制装饰膜如：金色的氮化钛，黑色碳化钛，七彩的氮氧化钛等，亦可镀防腐触膜（如AL、Cr不锈钢及TIN等）和耐磨膜。膜层与基底结合牢固，适合于手表、五金、餐具及要求耐磨超硬的刀具、模具等。具有很好的发展前景。

设备特性
       生产同期：生产同期短-270sec/1同期（干燥无大量放气产品条件）
       镀膜材料：通用于各种金属镀膜（铝、镍、铜、铬……等金属材料）
       镀膜方式：金属溅射镀膜，膜厚分布均匀
       镀膜品质：亮度高、附着力强
       镀膜速度：两个20Kw大功率磁控制溅射电机，可以调动功率来控制镀膜速度
       除湿能力：真空室内装有雩下140度以下的低温冷冻系统，充分吸收湿气提高真空到达速度
       运营费用：溅射电极是自行开发产品，大大提高了靶材的使用效率
       占地面精：在固定位置进行上料和下料只要很小的操作空间
       操作方法：人机界面可以直观的进行设置和监控，设有管理密码无关人员无法更改
       售后服务：设有售后服务中心和配件仓库，可以快速处理使用中的问题

设备原理图示
       在适当的真空环境下，接通高压电源，在蒸发源与基片间建立一个低压气体放电的低温等离子区，基片电极上接直流负高压，从而形成辉光放电阴极，镀料气化原子进入此区域与惰性气体离子及电子发生碰撞，离化后的离子及气体离子以较高能量轰击镀层表面，将蒸发物或其反应物沉积在积片上。

离子镀膜原理图