真空镀膜机是用于在真空条件下进行薄膜沉积的设备，其结构形式多种多样，以适应不同的作业场景和基片类型。以下是真空镀膜机的几种常见结构形式：

       立式真空镀膜机是一种常见的结构形式，它由镀膜室、真空泵系统、控制系统等部分组成。镀膜室通常为圆柱形或方形，内部装有加热装置和冷却系统，以控制镀膜过程中的温度。它适用于在平面基片上进行薄膜沉积，如光学镜片、半导体晶圆等。

       卧式真空镀膜机是另一种常见的结构形式，它与立式真空镀膜机的主要区别在于镀膜室的形状和布局。它的镀膜室通常为长方体形状，内部装有多个蒸发源和靶材，可以实现多层层叠镀膜。它适用于在大面积基片上进行薄膜沉积，如太阳能电池板、平板显示器等。

       连续式真空镀膜机是一种自动化程度较高的真空镀膜设备，它可以在连续生产线上进行薄膜沉积。它通常由多个镀膜室、输送系统、控制系统等部分组成，可以实现高效、稳定的薄膜沉积。它适用于大规模生产中的薄膜沉积，如塑料薄膜、金属箔等。

       除了以上几种常见的结构形式外，还有一些特殊结构的真空镀膜机，如旋转式、折叠式等。这些真空镀膜机具有特定的结构和功能，适用于特定的作业场景和基片类型。