真空腔体在真空镀膜设备中被认为是主体部分，因为它承担了创建和维持高真空环境的关键角色。以下是一些原因解释为什么真空腔体是真空镀膜设备的主体部分：

       1、真空环境的形成：它是容纳镀膜过程的空间，通过排除大部分气体分子和粒子，制造出高度稀薄的真空环境。在这种环境中，材料蒸发、溅射或其他涂层过程能够越加准确的进行，从而实现所需的薄膜性能。

       2、薄膜质量的保障：其环境可以避免杂质、氧气和水分的干扰，有利于保障薄膜的质量和稳定性。它的设计和密封性能对于有效隔绝外部环境影响很重要，以保障薄膜涂层的一致性和牢靠性。

       3、工艺控制：它是工艺参数控制的关键部分，可以通过控制压力、温度等参数来调整薄膜的生长速率、厚度和成分。准确的工艺控制是获得所需薄膜性能的关键因素。

       4、避免污染和交叉污染：其环境减少了外部污染物进入镀膜过程的可能性，从而降低了交叉污染的风险。这对于保障不同样品或批次之间的一致性和纯度很重要。

       5、设备稳定性和安全性：它通常由品质好的材料制成，具有耐腐蚀性和耐受高温性能，可以承受高真空下的压力和温度变化。真空镀膜设备的稳定性和安全性都与真空腔体的设计和制造有关。