改进真空镀膜机的镀膜速度是一个复杂的工程问题，可以通过以下一些方法来上升镀膜速度：

       1、上升真空度：保障真空系统的性能和密封性，以上升真空度。较高的真空度可以减少气体碰撞和扩散，从而加速蒸发材料的蒸发速度。

       2、使用高功率蒸发源：采用功率越大的蒸发源，可以增加蒸发材料的蒸发速率，从而加速镀膜速度。

       3、优化蒸发工艺：通过优化蒸发工艺参数，如温度、压力和蒸发速率的控制，来实现越高效的蒸发过程。

       4、采用多个蒸发源：在大面积镀膜或多层镀膜时，可以采用多个蒸发源，同时进行多点蒸发，以上升镀膜速度。

       5、使用新型材料：选择具有较高蒸发速率和较高镀膜效率的蒸发材料，可以加速镀膜速度。

       6、增加基底加热：在镀膜过程中加热基底，可以上升基底表面的扩散速率，从而加速薄膜的生长速度。

       7、优化设备结构：优化真空镀膜机的结构设计，减少气体扩散路径和阻力，从而上升镀膜速度。

       需要注意的是，上升镀膜速度需要综合考虑真空镀膜机本身的性能、镀膜材料的特性以及镀膜工艺的参数，而且镀膜速度的上升也可能会影响镀膜质量，因此需要进行充分的工艺优化和实验验证。